Process Technology

让薄膜指标进入可量产状态

设备设计必须服务于膜层性能、生产稳定性、维护效率和后续扩展。

取样、开发、扩展

薄膜工艺能否稳定量产，取决于腔体、等离子体、电源、气氛、传输和检测之间的协同，而不是单个模块参数。

我们把样片验证、设备结构和整线控制放在同一条链路中推进，使工艺窗口能够被重复、放大并长期维护。

Technology Framework

真空镀膜项目通常不是单点设备采购，而是多个技术模块的协同。我们把腔体、等离子体、电源、气体、传输、检测和数据接口放在同一条工程链路里评估。

按工艺洁净度、基材尺寸和节拍配置腔体结构、阀组、泵组和检漏方案。

支持 DC、MF、RF 等不同放电方式，并围绕靶材利用率和膜层稳定性进行匹配。

可集成膜厚、光学、温度、压力和电源数据，形成可追踪的工艺记录。

通过传输、门阀、真空、气体和电气安全逻辑，提升整线运行稳定性。

根据膜层材料、沉积速率和稳定性目标，选择 DC、MF、RF 等放电方式和靶位配置。

通过泵组、阀组、MFC 和压力闭环，保证沉积环境可重复、可追踪。

围绕基材尺寸、洁净度和节拍要求，设计连续式、批量式或定制装载方案。

记录关键工艺参数，联动门阀、电源、气体和传输安全逻辑。

Validation Path

确认基材、膜系、产能、厂房条件和目标良率。

通过样片测试、膜厚测量和指标评估锁定工艺窗口。

输出设备配置、产线布局、节拍规划和自动化接口。

完成设备安装、联机调试、操作培训和验收支持。

提供备件、保养、远程支持和老线效率提升建议。

FAQ

项目早期需要提供哪些信息？

建议提供基材尺寸、膜系目标、产能节拍、厂房条件、当前工艺状态和预期投产时间。

设备是否可以按项目定制？

可以。真空腔体、靶位、电源、气路、传输、检测和自动化接口都可以按项目边界配置。

是否支持样片验证和工艺窗口摸索？

支持。项目可从样片测试、膜厚测量、均匀性评估和关键指标验证开始。