围绕膜厚、均匀性、附着力、透过率和稳定性建立工艺窗口。
Equipment Portfolio
真空镀膜装备产品
按产线连续化程度、工艺类型和自动化需求，选择适合的装备平台。
用于研发和生产的可靠设备这些装备平台面向研发验证、中试放大和规模化生产，覆盖真空镀膜项目中常见的基材、膜系、节拍和自动化边界。
系统可按不同工艺路线组合配置，帮助客户从样片验证进入稳定、可重复、可维护的生产状态。
我们把腔体、真空、电源、传输、检测和数据接口放在同一条工程链路里评估，让设备选型更贴近后续量产。
按产能节拍、厂房条件和上下游设备接口规划产线边界。
可接入膜厚、光学、电源、压力、温度和报警数据，支撑追溯。
从方案设计、样片验证到现场调试和运维升级形成闭环支持。
Coating Systems
从实验室样片到规模化生产
按产能
覆盖研发验证、中试放大、连续化生产与整线自动化，便于从样片阶段逐步进入稳定量产。
按基材
适配玻璃、金属、晶圆、柔性材料、精密零部件等不同基材尺寸、洁净度和装载方式。
按工艺
支持磁控溅射、蒸发、PECVD、复合膜层、在线检测和数据追踪等核心模块组合。
Inline Sputtering System
连续式磁控溅射镀膜线
适合大尺寸玻璃、光伏组件、显示基板和功能薄膜量产，支持多腔室连续工艺与自动上下片。
连续生产多腔室膜厚监控自动物流
- 基片尺寸按项目定制
- 支持 DC / MF / RF 电源
- 可配置在线测量
光伏玻璃Low-E 玻璃显示面板透明导电膜
Batch Coating System
批量式真空镀膜设备
面向中小尺寸零部件、精密器件和功能材料研发生产，兼顾工艺灵活性与维护效率。
灵活换型研发量产多工艺集成易维护
- 可选圆形或矩形腔体
- 支持多靶位布置
- 可集成加热与偏压
精密零件光学膜层工具涂层研发中试
PECVD Deposition Platform
PECVD 薄膜沉积设备
用于介质膜、钝化膜、阻隔膜和复合膜层沉积，适合对温度窗口和膜层致密性有要求的场景。
低温沉积等离子体复合膜层工艺窗口
- 可配置多气路 MFC
- 支持 RF 等离子源
- 温控与压力闭环
光伏电池先进封装阻隔膜功能玻璃
Automation Integration
真空产线自动化集成
围绕上下料、缓存、传输、视觉检测、数据采集和安全互锁，形成稳定可追踪的整线能力。
自动上下料数据追踪视觉检测安全互锁
- 支持定制传输节拍
- 可接入机器人和 AGV
- 设备状态看板
整线交付老线升级无人化车间质量追踪
Selection Guide
按项目目标快速匹配装备
如果项目仍处于方案阶段，可以先根据产能、基材、膜层和自动化边界做初步判断，再进入详细工艺验证和设备配置。
连续式磁控溅射镀膜线真空产线自动化集成
批量式真空镀膜设备PECVD 薄膜沉积设备
连续式磁控溅射镀膜线自动上下片与缓存传输
PECVD 薄膜沉积设备复合膜层工艺平台
真空产线自动化集成检测与数据采集模块
Engineering Support
配套工程服务
设备只是项目的一部分，我们会把前期需求、工艺验证、方案设计、安装调试和后续维护放在同一套交付节奏里。
需求评估
确认基材、膜系、产能、厂房条件和目标良率。
工艺验证
通过样片测试、膜厚测量和指标评估锁定工艺窗口。
方案设计
输出设备配置、产线布局、节拍规划和自动化接口。
安装调试
完成设备安装、联机调试、操作培训和验收支持。
运维升级
提供备件、保养、远程支持和老线效率提升建议。
Project Inquiry
正在规划真空镀膜设备或产线？
提交基材、膜系、产能节拍和项目阶段，我们可以先给出设备平台、工艺模块和自动化边界的初步配置方向。
FAQ
常见问题
如何判断应该选连续式还是批量式设备？
通常先看基材尺寸、目标产能、膜系复杂度和换型频率。连续式更适合稳定高节拍生产，批量式更适合研发、中试、多品类和中小尺寸零部件。
产品页面中的设备是否可以组合成整线？
可以。真空腔体、靶位、电源、气路、传输、检测、上下料和数据接口都可以按项目边界组合，形成单机、岛式单元或连续化整线。
项目早期需要准备哪些参数？
建议准备基材类型与尺寸、目标膜系、产能节拍、厂房条件、洁净要求、当前工艺状态和预期投产时间，这些信息会直接影响设备配置。