Industry Applications

面向不同应用的真空镀膜方案

围绕基材、膜系、良率、节拍和厂务条件，组合真空装备、薄膜工艺与自动化能力。

适合市场需求的高科技镀膜系统

不同应用对膜层性能、洁净度、基材尺寸和量产节拍有明显差异，因此设备方案需要从行业需求反推，而不是简单套用标准机型。

我们把工艺验证、设备配置、自动化接口和后续扩展放在同一套项目路径中评估，使方案更接近真实生产条件。

Application Map

覆盖透明导电膜、钝化膜、阻隔膜和组件玻璃相关工艺，关注高节拍、低污染和连续稳定运行。

面向 Low-E、隔热、装饰和功能玻璃镀膜，提供大尺寸基材传输与多层膜系沉积方案。

针对透明导电膜、金属电极、光学调整膜和保护膜，兼顾颗粒控制、节拍与良率追踪。

用于研发、中试和特种材料沉积，支持多源、多气氛、多温区和配方化工艺管理。

Recommended Platforms

Inline Sputtering System / 适合大尺寸玻璃、光伏组件、显示基板和功能薄膜量产，支持多腔室连续工艺与自动上下片。

Batch Coating System / 面向中小尺寸零部件、精密器件和功能材料研发生产，兼顾工艺灵活性与维护效率。

PECVD Deposition Platform / 用于介质膜、钝化膜、阻隔膜和复合膜层沉积，适合对温度窗口和膜层致密性有要求的场景。

Automation Integration / 围绕上下料、缓存、传输、视觉检测、数据采集和安全互锁，形成稳定可追踪的整线能力。

FAQ

项目早期需要提供哪些信息？

建议提供基材尺寸、膜系目标、产能节拍、厂房条件、当前工艺状态和预期投产时间。

设备是否可以按项目定制？

可以。真空腔体、靶位、电源、气路、传输、检测和自动化接口都可以按项目边界配置。

是否支持样片验证和工艺窗口摸索？

支持。项目可从样片测试、膜厚测量、均匀性评估和关键指标验证开始。